加氫氮氣純化設(shè)備

工藝原理：加氫脫氧裝置以普氮為原料，經(jīng)加氫催化除氧、冷卻、吸附干燥，再經(jīng)過濾除去氮氣中的雜質(zhì)、水氣和塵埃，獲得高純度氮氣。

除氧原理為：H2+O2→H2O

PSA事業(yè)部：

陳先生 13815120036（微信同號）

深冷空分事業(yè)部：

鐘先生 13951575166（微信同號）

外貿(mào)部：

丁小姐 15961778275（微信同號）

工藝原理：

加氫脫氧裝置以普氮為原料，經(jīng)加氫催化除氧、冷卻、吸附干燥，再經(jīng)過濾除去氮氣中的雜質(zhì)、水氣和塵埃，獲得高純度氮氣。

除氧原理為：H2+O2→H2O

加氫氮氣純化設(shè)備技術(shù)指標：

處理氣量：10-500Nm3／h

原料氮氣純度：≥99．5％
產(chǎn)品氮氣純度：99．9995％ O2≤5ppm H2：微量
露點：≤-60℃
產(chǎn)品氮氣出口壓力：0．1~0．6Mpa

工藝流程圖：

加氫氮氣純化設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)表：

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